重要日期

  会议日期

       2018年10月19-22日

  摘要截止日期:

       2018年7月31日前

  全文提交日期:

       2018年10月18日前

  网上注册日期:

       2018年10月19日前

  现场报到日期:

       2018年10月19日 

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刘世元

华中科技大学

更新时间:2018/7/12 14:17:32

刘世元

刘世元,1970年出生,华中科技大学数字制造装备与技术国家重点实验室教授、博士生导师,国家杰出青年科学基金获得者,国家“万人计划”领军人才,国际测量与仪器委员会委员。长期从事纳米光学测量技术与仪器方面的研究工作,近年来主持了6项国家自然科学基金、首批国家重大科学仪器设备开发专项等项目。获国际国内发明专利42件,在Opt. ExpressOpt. Lett.等期刊发表SCI论文100余篇,重要国际会议做大会/特邀报告30余次;担任组委会主席,于2014年和2016年分别在武汉和南宁组织召开了第一届和第二届全国椭圆偏振光谱学研讨会

2018报告题目:光谱椭偏学:原理、仪器及纳米测量应用

报告摘要:椭偏仪是一种利用光的偏振态改变信息来分析样品的重要科学仪器,广泛应用于材料光学常数、薄膜厚度等参数的测量表征。其中,穆勒矩阵椭偏仪代表了椭偏仪的最高水平,可以测得一个44阶的穆勒矩阵共16个参数,因而可以获得更为丰富的测量信息。本报告首先介绍传统椭偏测量的基本原理及在多层光学薄膜表征中的应用;然后阐述IC集成电路、OLED/OPV、柔性电子等领域中普遍采用的超薄层状纳米结构及其测量挑战;接下来介绍本课题组的若干最新进展,包括自主研制的国内第一台高精度宽光谱穆勒矩阵椭偏仪,及其在IC纳米结构形貌测量、新型二维材料光学特性表征、OLED/OPV有机材料分子取向各向异性分析、原子层沉积(ALD)薄膜成核过程原位测量、以及卷对卷(roll-to-roll)大面积纳米结构薄膜量产在线监测中的应用;最后展望椭偏测量的应用前景及未来发展趋势,包括更宽光谱范围、更高空间分辨、更高时间分辨的新型椭偏仪研制及其潜在应用。